日前,北京屹唐半导体科技股份有限公司(股票代码:688729,以下简称 “屹唐股份”)被正式纳入上证科创板50成份指数和MSCI中国A股在岸指数,相关调整分别于9月14日和8月31日收盘后正式生效。这是屹唐股份自2025年7月登陆科创板以来,在国内和国际资本市场层面取得的又一重要进展,代表着公司将会获得国内和国际更多投资者的关注。
作为植根北京经济技术开发区的高端半导体装备企业,屹唐股份上市一年多来始终坚守集成电路装备主业,以科技创新为核心驱动力,在创新技术突破、产品矩阵升级、全球市场布局、绿色低碳发展等方面持续稳步推进,正逐步成长为具备全球竞争力的半导体设备平台型企业。
全球化运营深耕细分赛道 核心产品稳居全球前列
屹唐股份坚持全球化经营战略,依托中国、美国、德国三地研发与制造基地,构建了覆盖全球主要半导体产业集群的研产、销售与服务网络,客户全面覆盖全球前十大芯片制造商,产品广泛应用于逻辑芯片、存储芯片、功率器件、先进封装等多个领域。
凭借多年的技术积累与市场深耕,公司在多个细分赛道建立了深厚的竞争壁垒。根据国际权威分析机构统计数据,公司干法去胶设备全球市占率位居世界第二,在逻辑制程领域处于行业领先地位;快速热处理设备全球市场份额同样位列全球第二。两大优势赛道持续迭代升级,公司正同步研发下一代高产能去胶设备、先进低压快速热处理与氧化设备,以及集成多项连续工艺流程的一体化设备,持续巩固技术领先优势。
干法刻蚀及等离子体表面处理设备是公司最具成长性的业务板块。近年来,公司推出的新一代先进干法刻蚀设备 RENA-E®,国内新客户导入验证进展顺利,新签订单进入逐步放量阶段,同类刻蚀设备也已首次进入欧洲市场;先进等离子体表面处理和材料改性设备等核心产品,已通过多家全球关键客户量产验证并持续获得重复订单。
为了更好地满足国内外客户对于干法刻蚀及等离子体表面处理设备的广泛需求,进一步提升公司在干法刻蚀及等离子体表面处理设备领域的可服务市场规模,公司目前已开展新型金属刻蚀设备、新型晶边刻蚀和沉积设备、高选择比刻蚀设备及多腔体工艺集成平台设备等研发项目,均取得良好进展,部分项目已完成产品研发并已经导入客户端开展验证。其中,公司在现有成熟稳定的刻蚀和去胶技术基础上,结合金属刻蚀工艺的需求和特点,开发了高竞争力、全覆盖后段刻蚀工艺需求的介质和金属刻蚀设备。目前,产品工艺和客户应用开发进展顺利,同时在先进封装领域具备广阔的应用空间。
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